全球高纯溅射靶材（High Purity Sputtering Target Material）主要厂商有Linde、Mitsui Mining & Smelting、JX Nippon Mining & Metals Corporation、Materion、Honeywell和Konfoong Materials International Co., Ltd等，全球前六大厂商共占有超过60%的市场份额。目前亚太是全球最大的高纯溅射靶材市场，占有大约85%的市场份额，之后是北美市场，占有接近9%的份额。本文研究全球及中国市场高纯溅射靶材现状及未来发展趋势，侧重分析全球及中国市场的主要企业，同时对比北美、欧洲、中国、日本、东南亚、印度等地区的现状及未来发展趋势。2020年全球高纯溅射靶材市场规模达到了124亿元，预计2027年将达到189亿元，年复合增长率(CAGR)为2.1%。本文重点分析在全球及中国有重要角色的企业，分析这些企业高纯溅射靶材产品的市场规模、市场份额、市场定位、产品类型以及发展规划等。主要企业包括：    Linde    Mitsui Mining & Smelting    JX Nippon Mining & Metals Corporation    Materion    Honeywell    Konfoong Materials International Co., Ltd    ULVAC    TOSOH    Luvata    Hitachi Metals    LT Metal    Sumitomo Chemical    Plansee SE    Fujian Acetron New Materials Co., Ltd    FURAYA Metals Co., Ltd    Luoyang Sifon Electronic Materials    Changzhou Sujing Electronic Material    Umicore    GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.    Advantec    Angstrom Sciences按照不同产品类型，包括如下几个类别：    金属溅射靶材    合金溅射靶材    非金属溅射靶材按照不同应用，主要包括如下几个方面：    半导体    太阳能    平板显示器    硬盘驱动器    其他重点关注如下几个地区:    北美    欧洲    中国    亚太    南美本文正文共8章，各章节主要内容如下：第1章：报告统计范围、产品细分及全球总体规模及增长率等数据，2016-2027年；第2章：全球不同应用高纯溅射靶材市场规模及份额等；第3章：全球高纯溅射靶材主要地区市场规模及份额等；第4章：全球范围内高纯溅射靶材主要企业竞争分析，主要包括高纯溅射靶材收入、市场份额及行业集中度分析；第5章：中国市场高纯溅射靶材主要企业竞争分析，主要包括高纯溅射靶材收入、市场份额及行业集中度分析；第6章：全球高纯溅射靶材主要企业基本情况介绍，包括公司简介、高纯溅射靶材产品、高纯溅射靶材收入及最新动态等；第7章：行业发展机遇和风险分析；第8章：报告结论。

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