2024年中国溅射靶材行业市场现状及未来发展前景
来源:中商产业研究院 发布日期:2024-05-15 12:02
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七、中国溅射靶材行业市场前景预测分析

1.国家产业政策大力支持推动行业持续快速发展

自2016年,工信部、国家发改委、科技部、财政部发布《新材料产业发展指南》,明确提出要发展新一代信息技术产业用材料,解决极大规模集成电路材料制约。加快新材料的批量生产工艺优化,在新型显示等领域实现量产应用。此后,高性能溅射靶材被列入《重点新材料首批次应用示范指导目录》《重点新材料首批次应用示范指导目录》《“十四五”原材料工业发展规划》等多项产业政策文件中。

国家产业政策对高性能溅射靶材行业的高度重视与大力支持,为行业发展营造了良好的政策环境,有利于行业持续快速发展,加快向关键技术领域突破,助力我国战略性新兴产业发展。

2.新型显示技术普及和终端应用场景拓展推动行业不断发展

随着5G、半导体集成电路、互联网、人工智能产业的迅速发展,新型显示成为创新领域最蓬勃发展的产业方向之一。近年来,8K超高清、3D显示、柔性显示、透明显示等技术领域进步显著,正颠覆传统显示终端应用形态。在大尺寸半导体显示领域,5G网络内容传输速度的提升将会推动8K智能设备的蓬勃发展。商用显示、智能家居的应用场景也将更大地扩展,智慧交通、智慧医疗、智慧新零售等将催生更多的应用和设备的技术升级。

平面显示是高性能溅射靶材行业最为重要的下游应用领域之一,随着终端市场规模的持续增长以及新工艺、新技术等方面的不断突破,溅射靶材在下游终端的应用场景及应用范围还有望进一步拓展,行业增长发展潜力巨大。

3.新兴下游应用市场的快速发展拓宽行业市场空间

高性能溅射靶材伴随着半导体、平面显示、信息存储、微电子等产业的发展而兴起,随着上下游企业的持续研究创新,行业技术工艺水平不断提高,新技术产业化进程不断加快,溅射靶材的产品应用范围不断扩大,从装饰镀膜、工具镀膜、玻璃镀膜到信息存储、平面显示、半导体集成电路、太阳能电池等新兴产业,市场需求稳定增长,发展前景广阔。基于磁控溅射真空镀膜工艺稳定性好、均匀度好、膜层致密、结合力好等优点,溅射靶材将进一步拓展至复合铜箔、BPV、航空航天材料等新兴下游应用领域。

未来,随着新能源电池、太阳能光伏、航空航天等新兴下游应用市场的快速发展受益于磁控溅射真空镀膜的良好特性,高性能溅射靶材的下游应用场景将更加多样化,为溅射靶材行业的持续发展和进步提供广阔的市场空间。

更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国溅射靶材行业市场前景及投资机会研究报告》,同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业报告、行业白皮书、可行性研究报告、调查评估、产业规划、园区规划、产业链招商图谱、产业招商指引、项目包装策划、产业招商&推介会等咨询服务。

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