四、下游分析
1.下游应用情况
随着消费电子等终端应用市场的飞速发展，靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头。溅射靶材下游应用领域广泛，在平面显示、信息存储、光伏电池、半导体芯片等行业被广泛应用，占比分别为34%、29%、21%、10%。
数据来源：中商产业研究院整理
2.半导体芯片
靶材是磁控溅射沉积薄膜的材料源，目前以金属材质靶材在半导体芯片行业中应用最广泛。半导体芯片用金属溅射靶材的作用，是给芯片制作传递信息的金属导线。中国集成电路市场规模由2016年的4336亿元增长至2021年的10458亿元，年均复合增长率为19.3%，预计2022年市场规模将达12036亿元。
数据来源：中国半导体行业协会、中商产业研究院整理
3.光伏电池
光伏电池为溅射靶材终端应用领域之一,光伏靶材主要用于制备光伏电池片中所需要的薄膜，制备太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、ITO靶、AZO靶等，纯度要求一般在99.99%以上。中国光伏电池产量由2016年的7681万千瓦增长至2021年的23405.4万千瓦，复合年均增长率达24.96%。中商产业研究院预测，2022年我国光伏电池产量可达27875.3万千瓦。
数据来源：国家统计局、中商产业研究院整理
更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国溅射靶材市场前景及投资机会研究报告》，同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、行业研究报告、行业白皮书、商业计划书、可行性研究报告、园区产业规划、产业链招商图谱、产业招商指引、产业链招商考察&推介会等服务。
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