收藏!2021年度中国半导体产业链全景图剖析(附产业链全景图)
来源:中商产业研究院 发布日期:2021-12-22 16:58
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3.光刻胶

光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成对光敏感的混合液体。

资料来源:中商产业研究院

(1)光刻胶原料成本占比

生产光刻胶的原料包括光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体及其他助剂等。数据显示,树脂占光刻胶总成本的50%,在光刻胶各成分中占比最大,其次是占35%的单体和占15%的光引发剂及其他助剂。

数据来源:中商产业研究院整理

(2)光刻胶市场规模

作为半导体、平板显示及PCB行业制造环节中关键的材料,光刻胶的市场需求得到快速释放,尤其是LCD光刻胶。数据显示,我国光刻胶市场规模由2016年53.2亿元增至2019年81.4亿元,年均复合增长率为15.23%。中商产业研究院预测,2022年我国光刻胶市场规模可达101.7亿元。

数据来源:中商产业研究院整理

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